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1401型滑閥真空泵(已淘汰)
MH型滑閥真空泵(基本淘汰)
H型滑閥真空泵(單缸)
2H型滑閥真空泵(雙缸)

直聯(lián)旋片真空泵
2X型旋片真空泵
XD型單級(jí)旋片真空泵

ZJH型羅茨真空泵(專(zhuān)利產(chǎn)品)
ZJ型羅茨真空泵(老型)
ZJHQ型直排大氣羅茨真空泵

HF型爪式真空泵
LG型螺桿真空泵

2BA、2BV型直聯(lián)水環(huán)真空泵
SK、2SK、2SK-P型水環(huán)式真空泵
2BE型大型水環(huán)真空泵
RPP型水噴射真空泵

WLW型立式無(wú)油真空泵
W、WY型往復(fù)式真空泵

JZJHS型羅茨水環(huán)真空機(jī)組
JZJHX型羅茨旋片真空機(jī)組
JZJHBA型羅茨水環(huán)真空機(jī)組
JZJHP型羅茨水噴射真空機(jī)組
JZJHWLW型羅茨立式無(wú)油真空機(jī)組
JZJHH/2H型羅茨滑閥真空機(jī)組
HF型干式無(wú)油分子泵機(jī)組
JK型高真空羅茨-油擴(kuò)散泵機(jī)組

3L-WD型直聯(lián)三葉羅茨風(fēng)機(jī)
3L-WD型皮帶三葉羅茨風(fēng)機(jī)

VD/VOD真空爐鋼水精煉真空成套設(shè)備
ZHH真空吸引站
真空泵在鍍膜工業(yè)和鍍膜設(shè)備中的應(yīng)用非常廣泛。
      真空鍍膜技術(shù)是真空應(yīng)用技術(shù)的一個(gè)重要分支,它已廣泛地應(yīng)用于光學(xué)、電子學(xué)、能源開(kāi)發(fā),理化儀器、建筑機(jī)械、包裝、民用制品、表面科學(xué)以及科學(xué)研究等領(lǐng)域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學(xué)氣相沉積法。如果從真空鍍膜的目的是為了改變物質(zhì)表面的物理、化學(xué)性能的話(huà),這一技術(shù)又是真空表面處理技術(shù)中的重要組成部分。
    現(xiàn)就其幾個(gè)主要應(yīng)用方面做一簡(jiǎn)單介紹。首先在光學(xué)方面,一塊光學(xué)玻璃或石英表面上鍍一層或幾層不同物質(zhì)的薄膜后,即可成為高反射或無(wú)反射(即增透膜)或者作任何預(yù)期比例的反射或透射材料,也可以作成對(duì)某種波長(zhǎng)的吸收,而對(duì)另一種波長(zhǎng)的透射的濾色片。高反射膜從大口徑的天文望遠(yuǎn)鏡和各種激光器開(kāi)始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜茉莉,都很需要。增透膜則大量用于照相和各種激光器開(kāi)始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜玻璃,都很需要。增透膜則大量用于照相機(jī)和電視攝象機(jī)的鏡頭上。在電子學(xué)方面真空鍍膜更占有極為重要的地位。各種規(guī)模的繼承電路。包括存貯器、運(yùn)算器、告訴邏輯元件等都要采用導(dǎo)電膜、絕緣膜和保護(hù)膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤(pán)、半導(dǎo)體激光器,約瑟夫遜器件、電荷耦合器件(CCD)也都甬道各種薄膜。在顯示器件方面,錄象磁頭、高密度錄象帶以及平面顯示裝置的透明導(dǎo)電膜、攝像管光導(dǎo)膜、顯示管熒光屏的鋁襯等也都是采用真空鍍膜法制備。在元件方面,在真空中蒸發(fā)鎳鉻,鉻或金屬陶瓷可以制造電阻,在塑料上蒸發(fā)鋁、一氧化硅、二氧化鈦等可以制造電容器,蒸發(fā)硒可以得到靜電復(fù)印機(jī)用的硒鼓、蒸發(fā)鈦酸鋇可以制造磁致伸縮的起聲元件等等。真空蒸發(fā)還可以用于制造超導(dǎo)膜和慣性約束巨變反應(yīng)用的微珠鍍層。此外還可以對(duì)珠寶、鐘表外殼表面、紡織品金屬花紋、金絲銀絲線(xiàn)等蒸鍍裝飾用薄膜,以及采用濺射鍍或離子鍍對(duì)刀具、模具等制造超硬膜。近兩年內(nèi)所興起的多弧離子鍍制備鈦金制品,如不銹鋼薄板、鏡面板、包柱、扶手、高檔床托架、樓梯欄桿等目前正在盛行。
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